Investigation on the Mechanism of Millisecond Solid Phase Crystallization of Silicon Films Formed by Micro-Thermal-Plasma-Jet and Their Application to Bottom-Gate Thin Film Transistors
アクセス数 : 268 件
ダウンロード数 : 185 件
今月のアクセス数 : 3 件
今月のダウンロード数 : 3 件
この文献の参照には次のURLをご利用ください : https://ir.lib.hiroshima-u.ac.jp/00051851
| ファイル情報(添付) | |
| ファイル情報(添付) | |
| ファイル情報(添付) | |
| タイトル ( eng ) |
Investigation on the Mechanism of Millisecond Solid Phase Crystallization of Silicon Films Formed by Micro-Thermal-Plasma-Jet and Their Application to Bottom-Gate Thin Film Transistors
|
| タイトル ( jpn ) |
大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射によるシリコン薄膜のミリ秒結晶化メカニズムの解明とボトムゲート型薄膜トランジスタへの応用
|
| 作成者 |
Nguyen Hoa Thi Khanh
|
| 言語 |
英語
|
| 資源タイプ | 博士論文 |
| 出版タイプ | Not Applicable (or Unknown)（適用外。または不明） |
| アクセス権 | オープンアクセス |
| 学位授与番号 | 甲第8673号 |
| 学位名 | |
| 学位授与年月日 | 2021-09-17 |
| 学位授与機関 |
広島大学
|
