Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for the Fabrication of Ti02 UV・Protective Thin-Film
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| ファイル情報(添付) | |
| タイトル ( eng ) |
Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for the Fabrication of Ti02 UV・Protective Thin-Film
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| タイトル ( jpn ) |
大気圧プラズマCVDによるUV遮蔽TiO2薄膜の開発
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| 作成者 |
Xu Jing
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| 内容記述 |
内容の要約
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| 言語 |
英語
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| 資源タイプ | 博士論文 |
| アクセス権 | オープンアクセス |
| 学位授与番号 | 甲第8008号 |
| 学位名 | |
| 学位授与年月日 | 2019-09-20 |
| 学位授与機関 |
広島大学
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