Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for the Fabrication of Ti02 UV・Protective Thin-Film

アクセス数 : 328
ダウンロード数 : 80

今月のアクセス数 : 0
今月のダウンロード数 : 0
File
k8008_1.pdf 63.3 KB 種類 : abstract
File
k8008_2.pdf 226 KB 種類 : abstract
File
k8008_4.pdf 59 KB 種類 : summary
Title ( eng )
Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for the Fabrication of Ti02 UV・Protective Thin-Film
Title ( jpn )
大気圧プラズマCVDによるUV遮蔽TiO2薄膜の開発
Creator
Xu Jing
Descriptions
内容の要約
Language
eng
Resource Type doctoral thesis
Access Rights open access
Dissertation Number 甲第8008号
Degree Name
Date of Granted 2019-09-20
Degree Grantors
広島大学