Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for the Fabrication of Ti02 UV・Protective Thin-Film

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File	k8008_2.pdf 226 KB 種類 : abstract
File	k8008_4.pdf 59 KB 種類 : summary
Title ( eng )	Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for the Fabrication of Ti02 UV・Protective Thin-Film
Title ( jpn )	大気圧プラズマCVDによるUV遮蔽TiO2薄膜の開発
Creator	Xu Jing
Descriptions	内容の要約
Language	eng
Resource Type	doctoral thesis
Access Rights	open access
Dissertation Number	甲第8008号
Degree Name	Doctor of Engineering
Date of Granted	2019-09-20
Degree Grantors	広島大学