Crystallization of Amorphous Silicon Films by Atmospheric Pressure Micro-Thermal-Plasma-Jet Irradiation and Its Application to Thin-Film Transistors
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| タイトル ( eng ) |
Crystallization of Amorphous Silicon Films by Atmospheric Pressure Micro-Thermal-Plasma-Jet Irradiation and Its Application to Thin-Film Transistors
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| タイトル ( jpn ) |
大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射によるアモルファスシリコン膜の結晶化及び薄膜トランジスタへの応用
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| 作成者 |
林 将平
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| 内容記述 |
内容の要約
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| NDC分類 |
電気工学 [ 540 ]
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| 言語 |
英語
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| 資源タイプ | 博士論文 |
| アクセス権 | オープンアクセス |
| 学位授与番号 | 甲第6500号 |
| 学位名 | |
| 学位授与年月日 | 2014-09-25 |
| 学位授与機関 |
広島大学
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