Crystallization of Amorphous Silicon Films by Atmospheric Pressure Micro-Thermal-Plasma-Jet Irradiation and Its Application to Thin-Film Transistors

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File	k6500_4.pdf 197 KB 種類 : summary
File	k6500_1.pdf 199 KB 種類 : abstract
File	k6500_2.pdf 216 KB 種類 : abstract
Title ( eng )	Crystallization of Amorphous Silicon Films by Atmospheric Pressure Micro-Thermal-Plasma-Jet Irradiation and Its Application to Thin-Film Transistors
Title ( jpn )	大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射によるアモルファスシリコン膜の結晶化及び薄膜トランジスタへの応用
Creator	Hayashi Shohei
Descriptions	内容の要約
NDC	Electrical engineering [ 540 ]
Language	eng
Resource Type	doctoral thesis
Access Rights	open access
Dissertation Number	甲第6500号
Degree Name	Doctor of Engineering
Date of Granted	2014-09-25
Degree Grantors	広島大学