Grain Growth Control by Atmospheric Pressure Micro-Thermal-Plasma-Jet Irradiation on Amorphous Silicon Strips and Its Application to High-Speed CMOS Circuit Fabrication

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File	k6825_1.pdf 817 KB 種類 : abstract
File	k6825_2.pdf 213 KB 種類 : abstract
Title ( eng )	Grain Growth Control by Atmospheric Pressure Micro-Thermal-Plasma-Jet Irradiation on Amorphous Silicon Strips and Its Application to High-Speed CMOS Circuit Fabrication
Title ( jpn )	アモルファスシリコン細線への大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射による結晶成長制御とその高速CMOS回路作製への応用
Creator	Morisaki Seiji
NDC	Electrical engineering [ 540 ]
Language	eng
Resource Type	doctoral thesis
Publish Type	Not Applicable (or Unknown)
Access Rights	open access
Dissertation Number	甲第6825号
Degree Name	Doctor of Engineering
Date of Granted	2015-10-16
Degree Grantors	広島大学