Preparation of TiO2-based thin films with improved photocatalytic activity and super-hydrophobicity by plasma-enhanced chemical vapor deposition
アクセス数 : 119 件
ダウンロード数 : 141 件
今月のアクセス数 : 5 件
今月のダウンロード数 : 0 件
この文献の参照には次のURLをご利用ください : https://ir.lib.hiroshima-u.ac.jp/00053275
ファイル情報(添付) |
k9023_1.pdf
154 KB
種類 :
抄録・要旨
|
ファイル情報(添付) |
k9023_2.pdf
175 KB
種類 :
抄録・要旨
|
ファイル情報(添付) |
k9023_3.pdf
10.7 MB
種類 :
全文
|
タイトル ( eng ) |
Preparation of TiO2-based thin films with improved photocatalytic activity and super-hydrophobicity by plasma-enhanced chemical vapor deposition
|
タイトル ( jpn ) |
プラズマCVD法による高い光触媒活性と超疎水性を有するTiO2薄膜の作製
|
作成者 |
郎 江華
|
言語 |
英語
|
資源タイプ | 博士論文 |
出版タイプ | Not Applicable (or Unknown)(適用外。または不明) |
アクセス権 | オープンアクセス |
学位授与番号 | 甲第9023号 |
学位名 | |
学位授与年月日 | 2022-09-20 |
学位授与機関 |
広島大学
|