Low Specific Contact Resistance and High-Temperature Reliability of Ni/Nb Ohmic Contacts on 4H-SiC for Harsh Environment Applications
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| ID | 49458 |
| 本文ファイル | |
| 別タイトル | 極限環境応用のための4H-SiC半導体上の低抵抗・高信頼Ni/Nbオーミック接触形成
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| 著者 |
Vuong Cuong Van
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| 内容記述 | 内容の要約
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| 言語 |
英語
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| NII資源タイプ |
学位論文
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| 広大資料タイプ |
学位論文
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| DCMIタイプ | text
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| フォーマット | application/pdf
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| 学位記番号 | 甲第8161号
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| 授与大学 | 広島大学(Hiroshima University)
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| 学位名 | 博士(理学)
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| 学位名の英名 | Doctor of Science
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| 学位の種類の英名 | doctoral
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| 学位授与年月日 | 2020-03-23
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| 部局名 |
先端物質科学研究科
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