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ID 18826
本文ファイル
著者
Nagaoka, Shin-ichi
Prümper, Georg
Fukuzawa, Hironobu
Hino, Megumi
Takemoto, Mai
Tamenori, Yusuke
Harries, James
Suzuki, Isao H.
Tabayashi, Kiyohiko
Liu, Xiao-Jing
Lischke, Toralf
Ueda, Kiyoshi
抄録(英)
Site-specific fragmentation caused by Si:2p core-level photoionization of F3SiCH2CH2Si(CH3)3 vapor was studied by means of high-resolution energy-selected-electron photoion-photoion triple-coincidence spectroscopy. The ab initio molecular orbital method was used for the theoretical description. F3SiCH2CH2+- Si(CH3)3+ ion pairs were produced by the 2p photoionization of the Si atoms bonded to the three methyl groups, and SiF+-containing ion pairs were produced by the 2p photoionization of the Si atoms bonded to the three F atoms.
掲載誌名
Physical Review A - Atomic, Molecular, and Optical Physics
75巻
2号
開始ページ
020502-1
終了ページ
020502-4
出版年月日
2007-02-20
出版者
American Physical Society
ISSN
1050-2947
NCID
出版者DOI
言語
英語
NII資源タイプ
学術雑誌論文
広大資料タイプ
学術雑誌論文
DCMIタイプ
text
フォーマット
application/pdf
著者版フラグ
publisher
権利情報
Copyright (c) 2007 The American Physical Society.
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部局名
理学研究科