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ID 49458
file
k8161_1.pdf 108 KB
k8161_2.pdf 209 KB
k8161_4.pdf 132 KB
title alternative
極限環境応用のための4H-SiC半導体上の低抵抗・高信頼Ni/Nbオーミック接触形成
creator
Vuong, Cuong Van
description
内容の要約
language
eng
nii type
Thesis or Dissertation
HU type
Doctoral Theses
DCMI type
text
format
application/pdf
grantid
甲第8161号
degreeGrantor
広島大学(Hiroshima University)
degreename Ja
博士(理学)
degreename En
Doctor of Science
degreelevel
doctoral
date of granted
2020-03-23
department
Graduate School of Advanced Sciences of Matter